光電

在CCD自動對準曝光機中，對準精度對於確保光掩模與基板的精確曝光至關重要。 YK-XXY200PL-S1-1255平台提供±3μm的重複定位精度，這對於實現高精度對準至關重要。此精度確保每次曝光循環都能保持一致的對準精度，從而減少誤差並提高曝光過程的整體品質。該平台±10mm的行程和±5.5°的旋轉角度提供了足夠的靈活性，可適應各種尺寸和形狀的基板，確保其在不同生產場景中的廣泛應用。

對準平台的穩定性直接影響曝光品質。 YK-XXY200PL-S1-1255 平台採用自主研發的整合式軸承鋼滑塊，增強了穩定性並降低了機械振動。此平台平面度為±0.025mm，運動平行度為±0.03mm，確保對準過程中運動平穩精準。這種高水準的機械穩定性最大限度地減少了對準誤差，提高了曝光機的可靠性。

在CCD自動對準曝光等高要求環境下，平台必須能夠承受巨大的負載並保持效能。 YK-XXY200PL-S1-1255平台水平承重高達30kg，適用於各種類型的光遮罩和基板。該平台採用鋁合金材質，並經黑色陽極氧化處理，不僅經久耐用，而且耐腐蝕、耐磨損，確保在嚴苛條件下長期可靠運作。

為了精確控制對準和曝光過程，該平台整合了一台 Inovance 100W 馬達（由客戶提供）和一個 SL-205NA-W 感測器（AKUSENSE）。馬達可實現精確平滑的調節，而感測器則提供平台位置的即時回饋。這種組合使 CCD 系統能夠根據感測器數據進行自動校正，從而確保精確對準並降低曝光誤差的發生機率。 CS-19X20.7-8X6 耦合器透過確保組件間的高效電力傳輸，進一步提高了系統的可靠性。